초청정 반도체 제조를 위한 고순도 여과

초청정 반도체 제조를 위한 고순도 여과

간략한 설명:


  • 상표:헹코
  • 필터 이름:고순도 대용량 및 다용도 필터
  • 재료:SS 316L
  • 유량:10~120 SLPM
  • 최대 작동 온도:400-500°C
  • 입자 제거 크기:> 0.003 μm
  • 제품 상세 정보

    제품 태그

    설명

    고유량 가스 필터 – 반도체 제조 공정에서 초고순도 가스 여과를 위해 특별히 설계되었습니다. 316L 스테인리스강으로 정밀하게 제작되었으며, 다중 컬럼 또는 적층 디스크 미디어 설계를 통해 높은 유량에서도 낮은 저항을 보장하고, 0.003μm의 여과 정밀도로 초고순도 요구 사항을 충족합니다. 견고한 금속 구조로 고온의 역동적인 환경에 이상적인 여과 솔루션입니다.

     

    제품 특징

    ▶전체 구조는 316L 스테인리스강으로 제작되었습니다.— 내구성과 부식 방지 기능을 보장합니다.
    ▶높은 유량, 낮은 저항— 높은 유량과 최소한의 압력 손실에 최적화되어 있습니다.
    ▶초고효율 입자 포집 성능— 초순수 상태를 유지하는 데 탁월합니다.
    ▶고온, 고압 및 부식에 강함— 열악한 환경에 적합합니다.
    ▶다양한 공정 가스와 호환 가능— 다양한 산업 분야에 활용 가능합니다.
    ▶클린룸 제조, 테스트 및 포장에 이상적입니다.— 통제된 환경에서 사용하기에 적합합니다.
    ▶100% 무결성 테스트— 각 필터는 품질 보증을 위해 종합적인 무결성 테스트를 거칩니다.
    ▶100% 헬륨 누출 테스트— 중요 용도에서의 신뢰성을 보장하기 위해 헬륨 누출 테스트를 통해 검증되었습니다.

     

    고순도 대용량 및 유틸리티 필터 OEM 판매

     

    데이터시트

    기술적 매개변수

    매개변수 사양
    필터 요소 재질 316L 스테인리스강 분말 소결
    주택 자재 316L 스테인리스강
    최대 입구 압력 207바
    최대 작동 차압 5.2 바
    헬륨 검증 누출률 2 x 10⁻¹⁰ cc/min
    헬륨 테스트 누출률 1 x 10⁻¹⁰ cc/min
    표면 처리  
    외부 표면 Ra < 1.6 μm
    내부 표면 Ra < 0.2 μm
    최대 작동 온도  
    불활성 기체 400-500℃
    부식성 및 반응성 가스 50℃
    입자 보유 효율 ≥99.9999999%(9LRV) @ 30slpm
    하류 청결도 0.01μm 초과 입자 ≤0.03개/리터, 30 slpm
    입자 잔류 크기 ≥0.003 μm

     

    크기

    고순도 대용량 및 유틸리티 필터 OEM 사이즈

    주문 가능한 부품 번호와 사이즈 정보는 다음과 같습니다.

    제품 모델 필터 요소 재질 여과 정확도(μm) 연결 유형
    Z01B-00647 316L 스테인리스 스틸 10~0.003 1/4인치
    Z01B-00648 316L 스테인리스 스틸 10~0.003 1/2인치
    Z01B-00649 316L 스테인리스 스틸 10~0.003 1/8인치
    Z01B-00650 316L 스테인리스 스틸 10~0.003 1인치
    맞춤 설정 가능 316L 스테인리스 스틸 10~0.003 필요에 따라

     

    일반적인 적용 사례

    몇 가지 일반적인 응용 사례고순도 대용량 및 다용도 필터그리고가스 패드의 가스 흐름 스트림 필터:

    1. 반도체 제조

    *웨이퍼 제작, 에칭 및 화학 기상 증착(CVD) 공정에 필요한 초고순도 가스 공급을 보장합니다.
    *질소, 아르곤 및 기타 운반 가스의 대량 가스 분배 시스템에서 높은 순도를 유지합니다.

    2. 제약 생산

    *중요 제조 환경에 필요한 무균 및 미립자 가스를 제공합니다.
    *클린룸 및 제어 환경에서 제품의 무결성을 유지하기 위한 고순도 여과를 지원합니다.

    3. 실험실 가스 시스템

    *가스 크로마토그래피 및 질량 분석기와 같은 분석 장비에서 가스 흐름을 정화하기 위해 실험실 환경에서 사용됩니다.
    *연구 및 시험 용도에 필요한 고순도 가스를 제공하여 민감한 기기를 보호합니다.

    4. 식품 및 음료 가공

    *탄산, 포장 및 보관 과정에서 사용되는 이산화탄소 및 기타 가스를 여과하여 식품의 안전과 품질을 유지합니다.
    *특히 대규모 가스 공급 시설과 같은 처리 공장에서 오염 없는 가스 공급을 보장합니다.

    5. 석유 및 가스 산업

    *가스 패드 여과를 통해 천연가스 흐름을 정화하여 저장 또는 운송 전에 오염 물질을 제거합니다.
    *고압 가스 흐름 시스템에서 미립자, 습기 및 불순물을 제거하여 하류 장비를 보호합니다.

    6. 화학 제조

    *화학 합성 및 반응에 사용되는 질소 및 아르곤과 같은 유틸리티 가스를 여과합니다.
    *가스 순도를 유지하여 오염 및 반응 불일치를 방지합니다.

    7. 항공우주 및 방위산업

    *항공우주 소재 및 부품의 제조 및 시험 환경에 고순도 가스를 공급합니다.
    *항공기 및 방위 장비 조립을 위한 통제된 환경에서 일관된 가스 순도를 보장합니다.

    8. 에너지 생산 (발전소)

    *냉각 및 공정 용도, 특히 고온 환경에서 고압 가스를 여과합니다.
    *가스 냉각 및 유동 시스템의 오염을 방지하여 효율성을 높이고 장비 마모를 줄입니다.

    이것들 f필터는 깨끗하고 일관된 가스 흐름이 필요한 모든 응용 분야에서 필수적이며 장비 보호 기능을 향상시킵니다.

    산업 전반에 걸쳐 공정 효율성과 최종 제품 품질을 향상시킵니다.

     

    반도체 산업용 고순도 대량 및 유틸리티 필터

     

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