초고순도 반도체 가스 시스템용 고급 IGS 표면 실장형 C-씰 필터
설명
HENGKO 표면 실장 필터는 반도체 OEM 장비에 사용되는 통합 가스 시스템의 까다로운 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. 0.003µm의 업계 최고 수준의 여과 성능을 제공하는 이 필터는 120 slpm에서 99.9999999% 이상의 입자 차단 효율(9-LRV)을 보장하여 탁월한 성능과 신뢰성을 제공합니다.
필터 엘리먼트와 하우징은 견고한 316L 스테인리스강 분말 소결 방식으로 제작되었으며, SEMI F86-0304 규격을 준수합니다. 1.125인치 가스 분배 시스템에 최적화된 C-씰 구성의 2포트 부품을 갖추고 있으며, 100°C에서 최대 3.4MPa의 입구 압력과 0.69MPa의 최대 작동 압력 차이를 지원합니다.
C형 및 W형 씰 규격 모두와 호환되는 이 특수 필터는 입자 방출과 함께 하류 공정의 청정도를 달성합니다.
Ra의 표면 마감외부는 < 1.6 µm, Ra는내부 크기가 0.13µm 미만인 이 필터는 최대 460°C의 고온을 견딜 수 있도록 설계되었습니다. 손쉬운 통합과 모듈식 설계 업그레이드를 위해 설계된 이 필터는 설치 및 유지 관리를 간소화하여 반도체 가스 공급 및 제어 애플리케이션에서 시스템 성능을 최적화하는 데 도움을 줍니다.
제품 특징
▶ 전체 316L 스테인리스 스틸 구조
▶ 소형화된 디자인, 콤팩트한 구조, 공간 절약
▶ 탁월한 가스 치환 및 탈착 특성
▶ 고온, 고압 및 부식에 강함
▶ 전해 연마 처리된 316L 스테인리스 스틸 하우징
▶ 쉽고 효율적인 설치 및 유지보수
▶ 기계적 밀봉, 매체에 구조적으로 용접되지 않음
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데이터시트
| 기술적 매개변수 | 값 |
|---|---|
| 필터 요소 재질 | 316L 스테인리스강 소결 분말 |
| 주택 자재 | 316L 스테인리스 스틸 |
| 최대 입구 압력 | 3.4 MPa @ 100°C |
| 최대 작동 차동 | 0.69 MPa @ 100°C |
| 헬륨 검증 누출률 | 1x10⁻¹¹ cc/min |
| 헬륨 테스트 누출률 | 1x10⁻⁹ cc/min |
| 표면 처리 | 외부 표면 Ra< 1.6 μm |
| 내부 표면 Ra< 0.13 μm | |
| 최대 작동 온도 | 460°C |
| 입자 차단 효율 | ≥99.9999999% (9-LRV) @ 120 slpm (기준 MPPS, 모든 입자) |
| 하류 청결도 | 입자 방출:< 0.03 입자/리터 (< 1 입자/ft³) |
| 휘발성 물질:< 10 ppb 수분 | |
| 입자 차단 크기 | ≥0.003 μm |
| 유량 범위 | 0~120 slpm |
크기

주문 가능한 부품 번호와 사이즈 정보는 다음과 같습니다.
| 제품 모델 | 유량 | 높이 H (mm) | 여과 정밀도 | 청소 수준 |
|---|---|---|---|---|
| Z01B-00637 | 10 slpm | 51.6 | 0.003 μm | C |
| Z01B-00638 | 40 slpm | 82.9 | 0.003 μm | C |
| Z01B-00687 | 80 slpm | 126.2 | 0.003 μm | C |
| Z01B-00688 | 120 slpm | 167.9 | 0.003 μm | C |
일반적인 적용 사례
W-씰 및 C-씰, 1.125인치 및 1.5인치 표면 장착형 모듈식 가스 공급 시스템과 함께 사용 가능합니다.
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