반도체 가스 필터:
칩 제조 시 완벽한 가스 순도 보장
정밀도와 순도가 가장 중요한 반도체 제조의 복잡한 세계에서
사용된 가스는 공정의 성공을 결정하는 데 중요한 역할을 합니다. 불순물은 아주 작은 수준에서도
마이크로칩의 섬세한 회로에 큰 피해를 주어 결함이 있거나 사용할 수 없게 만들 수 있습니다. 보호하기 위해
이 중요한 공정에서 반도체 가스 필터는 철저한 수호자 역할을 하며 오염 물질을 꼼꼼하게 제거합니다.
제조 라인을 통해 흐르는 가스의 깨끗한 품질을 보장합니다.
소결금속 필터에는 우수한 특성과 장점이 많이 있습니다.
1. 최첨단 클린룸 환경에서 제작
이 필터는 잠재적인 오염을 최소화하기 위해 꼼꼼하게 조건을 유지하는 최첨단 클린룸에서 탄생합니다. 정화된 공기 속에서 정밀 용접을 시작으로 엄격한 제조 공정을 거칩니다. 이후의 탈이온수 세척과 고압의 여과된 질소 퍼지를 통해 남아 있는 입자를 제거하고 입자 이탈 위험을 줄입니다.
2. 뛰어난 입자 제거 효율
SEMI F38 및 ISO 12500 테스트 방법에 의해 설정된 엄격한 표준을 준수하고 0.003μm 입자에 대해 9 LRV의 놀라운 여과 효율을 갖춘 이 필터는 부식으로 인해 생성된 입자와 움직이는 부품에서 생성된 입자를 효과적으로 제거하여 깨끗한 순도를 보장합니다. 가스.
3. 우수한 기계적 강도
높은 가스 압력을 자주 활용하는 까다로운 제조 공정과 환경에서 탁월한 탄력성을 보장하기 위해 엄격한 테스트를 거친 이 필터는 수명 전반에 걸쳐 변함없는 성능을 제공합니다.
4. 최고 수준의 업계 표준을 뛰어넘다
반도체 처리를 위한 엄격한 가스 처리 여과 요구 사항을 능가하는 이 필터는 엄격한 테스트를 거쳐 반도체 제조의 가스 전달 시스템에서 요구하는 중요한 여과 효율성, 정밀한 흐름 제어 및 안전 표준을 충족하는지 확인합니다.
5. 안전에 대한 확고한 의지
가연성, 부식성, 독성 및 발화성 공정 가스에 대한 노출로부터 보호하기 위해 필터 하우징은 세심한 누출 테스트를 거쳐 1x10-9 atm scc/초 미만의 놀라운 누출률을 달성합니다. 안전에 대한 확고한 약속은 위험한 가스를 억제하고 해를 끼치는 것을 방지하는 것입니다.
6. 탁월한 칩 제조를 위한 타협할 수 없는 순수성
탁월한 여과 기능, 안전에 대한 확고한 의지, 최고의 산업 표준 준수를 통해 이러한 가스 필터는 복잡한 반도체 제조 공정을 보호하는 데 중추적인 역할을 합니다. 그들은 순도의 수호자로서 제조 라인을 통해 가장 깨끗한 가스만 흐르도록 보장하고 현대 세계에 활력을 불어넣는 고성능 마이크로칩 생성의 길을 닦습니다.
반도체 필터의 종류
반도체 필터는 다음을 포함한 다양한 응용 분야에 사용됩니다.
* 전자제품 제조:
반도체 필터는 반도체 제조에 사용되는 초순수, 가스, 화학물질 등에서 입자를 제거하는 데 사용됩니다.
* 화학적 기계적 평탄화(CMP):
반도체 필터는 반도체 웨이퍼를 연마하는 데 사용되는 CMP 슬러리에서 입자를 제거하는 데 사용됩니다.
* 생물의학:
반도체 필터는 의료 진단 및 치료에 사용되는 유체에서 입자를 제거하는 데 사용됩니다.
* 환경:
반도체 필터는 공기와 물에서 입자를 제거하는 데 사용됩니다.
반도체 필터에는 네 가지 주요 유형이 있습니다.
1. 멤브레인 필터:
멤브레인 필터는 입자를 가두면서 유체를 통과시킬 수 있는 얇은 다공성 필름으로 만들어집니다.
2. 심도 필터:
심층 필터는 입자가 필터를 통과할 때 이를 가두는 두껍고 구불구불한 재료층으로 만들어집니다.
3. 흡착제 필터:
흡착제 필터는 입자를 끌어당기고 고정하는 재료로 만들어집니다.
4. 소결금속 필터
소결 금속 필터는 반도체 제조에 일반적으로 사용되는 심층 필터 유형입니다. 이는 미세한 금속 분말을 다공성 구조로 소결하여 만들어집니다. 소결 금속 필터는 높은 내구성, 높은 여과 효율, 고온 및 고압에 견딜 수 있는 능력으로 알려져 있습니다.
반도체 제조용 소결 금속 필터의 장점:
* 높은 내구성:
* 높은 여과 효율:
* 긴 수명:
* 화학적 호환성:
반도체 제조에 소결 금속 필터를 적용하는 방법:
* 가스 정화:
소결 금속 필터는 반도체 제조 공정에서 필수적인 부분으로, 고품질 반도체 장치의 생산을 보장하는 데 도움을 줍니다.
특정 용도에 사용되는 반도체 필터의 유형은 제거되는 입자의 크기, 필터링되는 유체의 유형 및 원하는 여과 수준에 따라 달라집니다.
다음은 다양한 유형의 반도체 필터를 요약한 표입니다.
필터 유형 | 설명 | 응용 | 영상 |
---|---|---|---|
멤브레인 필터 | 입자를 가두면서 유체가 통과할 수 있도록 하는 얇은 다공성 필름으로 만들어졌습니다. | 전자제품 제조, CMP, 생물의학, 환경 | |
심도 필터 | 입자가 필터를 통과할 때 이를 가두는 두껍고 구불구불한 재료층으로 만들어졌습니다. | CMP, 생물의학, 환경 | |
흡착제 필터 | 입자를 끌어당겨 고정하는 소재로 제작되었습니다. | 전자제품 제조, CMP, 생물의학, 환경 | |
소결 금속 필터 | 미세한 금속 분말을 다공성 구조로 소결하여 만듭니다. | 가스정화, 화학여과, 초순수여과, CMP슬러리여과 | 반도체용 소결금속 필터 |
애플리케이션
소결 금속 반도체 가스 필터는 반도체 산업의 다양한 응용 분야에 널리 사용됩니다. 높은 여과 효율, 내구성, 고온 및 압력에 견디는 능력과 같은 고유한 특성으로 인해 반도체 제조에서 가스 전달 시스템의 필수 구성 요소가 되었습니다.
소결 금속 반도체 가스 필터의 특정 응용 분야는 다음과 같습니다.
1. 웨이퍼 생산:
소결 금속 필터는 질소, 수소, 산소 등 웨이퍼 생산에 사용되는 가스를 정화하는 데 사용됩니다. 이러한 가스는 에피택셜 성장, 에칭, 도핑과 같은 공정에 필수적입니다.
2. 화학적 여과:
소결금속 필터는 반도체 제조에 사용되는 산, 염기, 용제 등의 화학물질을 필터링하는 데 사용됩니다. 이러한 화학물질은 세척, 에칭, 연마 등 다양한 목적으로 사용됩니다.
3. 초순수 여과:
소결금속 필터는 반도체 제조에 사용되는 초순수(UPW)를 필터링하는 데 사용됩니다. UPW는 웨이퍼 세척 및 헹굼은 물론 화학 물질 준비에도 필수적입니다.
4. CMP 슬러리 여과:
소결금속 필터는 반도체 웨이퍼 연마에 사용되는 CMP 슬러리를 필터링하는 데 사용됩니다. CMP는 마이크로칩 제조에 있어 중요한 공정입니다.
5. 사용 시점(POU) 여과:
소결 금속 필터는 POU 필터로 자주 사용되며, 사용 지점에 직접 설치되어 최고 수준의 여과 기능을 제공합니다. POU 필터는 마이크로프로세서 및 기타 고성능 장치 제조와 같이 가스의 순도가 중요한 응용 분야에 특히 중요합니다.
6. 고순도 가스 취급:
소결 금속 필터는 반도체 제조에 사용되는 가스에서 오염 물질을 제거하기 위해 고순도 가스 처리 시스템에 사용됩니다. 이러한 오염 물질에는 입자, 습기 및 유기 화합물이 포함될 수 있습니다.
7. 마이크로 전자공학 제조:
소결 금속 필터는 컴퓨터, 태블릿, 휴대폰, IoT 센서 및 제어 장치와 같은 마이크로 전자 제품 제조에 사용됩니다.
8. 미세전자기계시스템(MEMS) 여과:
소결 금속 필터는 미세 전자기계 시스템에서 오염 물질을 제거하는 공정인 MEMS 여과에 사용됩니다. MEMS는 센서, 액추에이터, 변환기 등 다양한 애플리케이션에 사용됩니다.
9. 데이터 저장 장치 필터링:
소결 금속 필터는 하드 드라이브 및 솔리드 스테이트 드라이브와 같은 데이터 저장 장치에서 오염 물질을 제거하는 프로세스인 데이터 저장 장치 여과에 사용됩니다.
이러한 특정 응용 분야 외에도 소결 금속 반도체 가스 필터는 반도체 산업의 다양한 기타 응용 분야에도 사용됩니다. 다재다능함과 신뢰성으로 인해 반도체 제조업체에 필수적인 도구가 되었습니다.
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